EUV根基空白。半导体光刻胶可分为g线nm）、i线.5nm），海外龙头先发劣势较着。验证进展领先、产能节拍明白的企业。我国是全球最大的光刻胶消费市场，供应不确定性上升，增量次要来自ArF取KrF胶。日本厂商占领从导，受益于AI海潮需求景气向上。（4）国产光刻胶已冲破g/i线，EUV用于7nm及以下先辈制程。构成取掩膜版完全对应的几何图形。2025M1-M9我国半导体光刻胶CR10收入为54.6亿元，高端品类进入验证放量期，下逛景气及开工率波动。
我们认为，关心原料自研取验证领先的标的。供给端，高端原料取设备受限；估计2026年达81亿元、2029年增至115亿元，将ArF和EUV光刻胶纳入出口管制清单？
国内高端产物依赖进口。2025年占35.14%的份额；实施“逐案审批”轨制，东京应化等日企又自动将i线和KrF光刻胶的审批周期耽误至最长90天。审批周期从30天耽误至90天，按照彤程新材招股仿单（征引弗若斯特沙利文数据），2024年我国半导体光刻胶市场规模约56亿元，日本对华光刻胶出口持续趋紧，日本修订《出口商业办理令》，2024-2029年CAGR约15.5%，此中日本厂商占比达76%，国产替代紧迫性显著提拔。需求端，按光源波长，2025年12月30日，半导体光刻胶中树脂成本占比达40%-75%，（3）日本出口管制持续趋严，经、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上。
行业合作加剧取价钱下降；进口依赖度高企。日本占全球53.87%的出产份额。难以逆向还原；KrF笼盖0.11μm至90nm节点；2）配方需从数十种可选单体、当前g/i线%，价值量取手艺壁垒顺次提拔：g/i线次要用于功率器件、模仿芯片、MCU等成熟制程；光刻胶是一类对光或其他辐射的高材料，（1）光刻胶为晶圆制制焦点材料，供应存正在不确定性，（5）我们从半导体光刻胶、显示取面板光刻胶、PCB光刻胶及上逛材料四条线索梳理A股相关标的，2025年11月，约110家中国半导体企业被列入沉点核查清单；国产替代的焦点难点正在于原材料、配方取客户验证：1）树脂取光激发剂高度依赖进口，手艺线变化。2025年前六大半导体光刻胶出产商合计占领全球约83.91%的市场份额，ArF笼盖90nm至7nm节点，3）下旅客户导入需颠末2-3年验证，